第81章组装光刻机
- 作者:疯子C
- 类型:科技进化
- 更新:10-07 05:26:04
- 字数:2514
蔡晋让运输车到隔壁小厂,然后将货物卸载下去。
激光器、光束矫正器、能量控制器、光束形状设置、遮光台、能量探测器、掩膜版......
而光刻的原理,实际上非常简单。
在硅片表面覆盖一层具有高度光敏感性的光刻胶,再用光线透过掩模照射在硅片表面。
这些设备仪器,都是国产的设备,属于国际市场上相当普通的。
其中的难点和关键点,在于将电路图从掩膜上转移至硅片上。
这一过程,目前只能通过光刻,才能最有效的实现。
所以,光刻的工艺水平,往往直接决定了芯片的制程水平和性能水平。
蔡晋要搞的,就是光刻机和半导体制造过程中必不可少的光刻胶。
光刻机,作为半导体制造业皇冠上的明珠,光刻机的意义不言而喻。
芯片在生产中需要进行20~30次的光刻,耗时占到iC生产环节的50%左右,占芯片生产成本的三分之一。
蔡晋正在考虑着,是不是弄一台跑步机,来加强一下身体锻炼。
几天下来,看似猛如虎,实则虚得很。
现在走路都有些飘。
转眼间,几天过去。
通常意义来说,只要解决光刻机的问题,那么芯片制造的工程,就完结了一半。
可惜高端光刻机主要掌控在As
蔡晋带着‘笨笨’出发到底下,正看到大门口有一辆大的运输车。
蔡晋此时醒悟过来,之前他让华为帮他采购一批机器设备和材料。
没想到这么快时间,货就送到了。
顶尖的设备,比较难搞到,这种普通货,就比较容易。
中国缺少的是中高端和顶尖的光刻机,但是并不缺少低端的光刻机!
被光线照射到的光刻胶,会发生反应。
此后,再用特定的溶剂洗去被照射或未被照射的光刻胶,就实现了电路图从掩模到硅片的转移。
这和中国古代的印刷术,实际上有一些相似之处,但光刻技术却比印刷术难了千万倍。
一般的光刻步骤,有气相成底膜、旋转涂胶、软烘、曝光、显影、坚膜。
接着,就是进行检测,主要是显影检测,让合规的硅片进入后续的蚀刻流程。
所谓蚀刻,便是通过化学或物理的方法,有选择地从硅片表面,除去不需要材料的过程。
完成之后,就能通过特定溶剂,洗去硅片表面残余的光刻胶了。
当然,这是最简易的光刻步骤,在实际生产制造中,比这复杂了上百倍。
蔡晋从开始光刻,到最后洗去残余的光刻胶,几个步骤,就足足花了三个多小时。
当然,这里面也是有他刚刚接触光刻机,操作不顺手的因素。
看着这生产出来的300nm芯片,蔡晋脸上露出了笑容。
虽然是低端芯片,但是这是好的开始。
他的目标,又不是这些300nm芯片,切确地说,不是为了芯片。
而是光刻机。
通过不断使用光刻机,去升级光刻机,这才是他的目的。
解决了制造机器,那么用机器来生产,就完全不是问题了。
就如同,中国缺少的是高端和顶尖的芯片,但是并不缺少普通的芯片。
“主人,底下联系,订购的机器设备到了。”
就在这时候,笨笨出声提醒。
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